繰り返し反射干渉計

2nm以上の高精度測定が可能

高反射2鏡面における光の等高干渉縞によって、縦方向の表面の変位を測定

相対する試料面と参照面の反射率を大きくすることにより、繰り返し反射による干渉縞が生じます。この干渉縞は繰り返し反射回数が多いほど、明部はより明るく、暗部はより暗く強調され、細くコントラストの良い干渉縞が得られます。

干渉縞の変位1本は1/2波長の0.273μmです。
反射率の高い表面では、縞が細く縞間隔の1/200程の変位が測定可能である為、2nm以上の高精度測定が可能となります。
※測定可能範囲は約5nm~2μmです。

特徴

製品ラインナップ ■繰り返し反射干渉計 BM-5
蒸着膜・スパッタリング膜等の鏡面状の膜厚段差測定 等

■ナノスコープ
繰り返し反射式の膜厚計